产品简介
基于高纯合成石英材料，YSM系列掩模版具有极高透过率和极低的金属杂质含量，具备出色的石英基板加工、清洗与检测能力，能够严格控制掩模基板的表面疵病、缺陷满足客户需求。
应用领域
掩模版基板
产品优势
极高的紫外透过率、极低杂质含量、无气泡、高表面质量
PRODUCT CENTER
基于高纯合成石英材料，YSM系列掩模版具有极高透过率和极低的金属杂质含量，具备出色的石英基板加工、清洗与检测能力，能够严格控制掩模基板的表面疵病、缺陷满足客户需求。
掩模版基板
极高的紫外透过率、极低杂质含量、无气泡、高表面质量
光学性能
•ppb级纯度，羟基含量<250ppm，保证良好的光学透过透过率
• ArF 193nm > 90.2%
•KrF 248nm > 92.0%
• I-line 365nm > 92.5%
•g-line 436nm > 92.7%
•内部透过率≥99.5%/cm @193nm
通过制备与加工工艺，保证良好的应力控制与光学均匀性
光学透过性能
加工指标
具备满足半导体掩膜版用石英基板的加工与测试能力
•多线切割
•双面研磨抛光
•超声清洗、深度清洗
•缺陷检测
•匀性
典型测试值（测试方法：原子力显微镜）
表面粗糙度测试（10μm*10μm）
指标 | 典型值 | 粗加工值 |
粗糙度 Ra | ≤0.2nm | <0.5nm |
面形PV | ≤2（上下表面） | |
TTV | ≤2μm | ≤5μm |