高纯合成石英材料在深紫外区域具有极高的透过率,并且可以通过特殊的处理工艺,提高紫外耐辐照能力,提高相应石英光学元件的使用寿命,因此在半导体光学领域具有广泛的应用。我们通过对合成石英工艺的不断优化,能够制备出具有更好折射率均匀性、极低应力双折射并具备紫外耐辐照能力的石英,满足严苛的半导体光学涉及要求和使用寿命要求。
紫外合成石英
1D/3D无条纹,高光学均匀性,耐深紫外辐照
高纯度合成石英玻璃,具有低的羟基含量(OH<100ppm),具有3D无条纹、低弱吸收系数、高损伤阈值、高光学均匀性、高透过率等光学特性。
羟基<250ppm,金属杂质含量<50ppb,尺寸、光均、应力双折射可定制
羟基<1ppm,金属杂质含量<20ppb,尺寸、光均、应力双折射可定制
基于高纯合成石英材料,YSM系列掩模版具有极高透过率、极低的杂质含量和高表面质量。